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新聞動態
拋光液成分分類有什麽?
編輯:肇慶市富二代下载地址玻璃科技有限公司   發布時間:2021-04-27

  拋光液的主要產品能夠按主要成分的不同分為以下幾大類:金剛石拋光液(多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液)、氧化矽拋光液(即CMP拋光液)、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化矽拋光液等幾類。

  多晶金剛石拋光液

  多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分,配合高分散性配方,能夠在保持高切削率的同時不易對研磨材質產生劃傷。

  主要應用於藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學晶體以及硬盤磁頭號的研磨和拋光。

  氧化矽拋光液

  氧化矽拋光液(CMP拋光液)是以高純矽粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。

  普遍用於多種材料納米級的高平整化拋光,如:矽晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化镓、磷化銦,精細光學器件、藍寶石片等的拋光加工。

  氧化鈰拋光液

  氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液,該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度散布平均、硬度適中等特性。

  適用於高精細光學儀器,光學鏡頭,微晶玻璃基板,晶體外表、集成電路光掩模等方麵的拋光。

  氧化鋁和碳化矽拋光液

  是以超細氧化鋁和碳化矽微粉為磨料的拋光液,主要成分是微米或亞微米級的磨料。

  主要用於高精細光學儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖銜接器等方麵的研磨和拋光。